用途:該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導體行業發展,砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料,對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統獨立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎上,新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優化設置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升,同時保持與行業廠商、學校研究院所的積極聯合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置,機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環功能,根據用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環系統;當其中一個桶內的液體用完時,能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業,最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12第二屆陶瓷封裝產業論壇于 11 月 22 日 - 23 日在河北石家莊舉辦,由深圳市艾邦智造資訊有限公司與河北鹿泉經濟開發區管委會聯合主辦。 圍繞仿真設計、創新材料、先進工藝、前沿應用等方面展開,共同探討陶瓷封裝的新技術進展和未來發展趨勢。
有機清洗機主要用于以下幾個方面: 1.工業制造領域 電子工業 半導體制造:在半導體芯片的生產過程中,有機清洗機起著至關重要的作用。芯片制造工藝復雜,經過光刻、刻蝕、沉積等多個工序后,晶圓表面會殘留光刻膠、蝕刻液、金屬顆粒等污染物。有機清洗機可以使用特定的有機溶劑,如丙酮、異丙醇等,有效去除這些雜質。例如,在光刻膠去除環節,清洗機能夠正確控制清洗液的溫度、濃度和清洗時間,確保光刻膠被徹底清除,同時不會對芯片表面的優良結構造成損傷,保證芯片的性能和質量。
自動供液系統具有多方面的作用,具體如下: 1.正確控制供液量: 在工業生產中,可按照生產工藝的要求,正確地將液體輸送到一定的位置,確保每個生產環節都能獲得正確劑量的液體,從而保證生產過程的穩定性和產品質量。例如,在電子芯片制造過程中,需要正確控制各種化學試劑的供給量,自動供液系統可以正確地將這些化學試劑輸送到生產線的特定位置,確保芯片制造的精度和質量。