用途:該設(shè)備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動(dòng)上下料、自動(dòng)定位,自動(dòng)沖切等功能,滿(mǎn)足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展,砷化鎵、磷化銦等二代半導(dǎo)體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,對(duì)于濕化學(xué)清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨(dú)立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎(chǔ)上,新材料清洗設(shè)備按照客戶(hù)工藝菜單進(jìn)行優(yōu)化設(shè)置,配液精度、配液種類(lèi)、清洗方式方面進(jìn)行設(shè)計(jì)提升,同時(shí)保持與行業(yè)廠商、學(xué)校研究院所的積極聯(lián)合探索和設(shè)備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨(dú)立濕處理工藝槽、按照客戶(hù)工藝菜單的設(shè)置,機(jī)械手在各工藝槽中進(jìn)行相應(yīng)的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動(dòng)供液系統(tǒng)可以通過(guò)VMB給多臺(tái)設(shè)備進(jìn)行供液。具有過(guò)濾、循環(huán)功能,根據(jù)用戶(hù)要求配備雙組或者多組過(guò)濾、循環(huán)系統(tǒng);當(dāng)其中一個(gè)桶內(nèi)的液體用完時(shí),能夠自動(dòng)進(jìn)行雙桶切換并且提示用戶(hù)。同時(shí)還具備化學(xué)液的取樣檢測(cè)功能。
TIME: 2024-10-11該設(shè)備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè),最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動(dòng)疊層機(jī)是用于生瓷片疊片的設(shè)備,具備自動(dòng)上下料、自動(dòng)切片、自動(dòng)撕膜、自動(dòng)對(duì)位、真空疊壓等功能,廣泛應(yīng)用于LTCC、HTCC、MLCC等領(lǐng)域。
TIME: 2024-10-12等離子清洗機(jī)是一種利用等離子體技術(shù)對(duì)物體表面進(jìn)行處理的設(shè)備,其作用主要包括以下幾個(gè)方面: 1.表面清潔 去除有機(jī)污染物:能有效去除物體表面的油脂、油污、指紋、光刻膠等有機(jī)雜質(zhì)。等離子體中的高能粒子與有機(jī)污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng),將其分解為二氧化碳、水等小分子物質(zhì),從而達(dá)到清潔表面的目的。
化學(xué)品通風(fēng)柜是一種用于實(shí)驗(yàn)室等場(chǎng)所,通過(guò)通風(fēng)系統(tǒng)將有害氣體、蒸汽、粉塵等污染物排出室外,以保護(hù)實(shí)驗(yàn)人員健康和實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的設(shè)備。它廣泛應(yīng)用于以下行業(yè): 1.化學(xué)化工行業(yè) 研發(fā)實(shí)驗(yàn)室:在化學(xué)化工產(chǎn)品的研發(fā)過(guò)程中,科研人員需要進(jìn)行各種化學(xué)反應(yīng)實(shí)驗(yàn),會(huì)使用到多種化學(xué)品,產(chǎn)生有害氣體。通風(fēng)柜能及時(shí)排出這些有害氣體,確保實(shí)驗(yàn)人員的安全和實(shí)驗(yàn)環(huán)境的穩(wěn)定。
全自動(dòng)硅片清洗機(jī)是一種用于半導(dǎo)體硅片清洗的專(zhuān)業(yè)設(shè)備,以下從其結(jié)構(gòu)、原理、特點(diǎn)和應(yīng)用等方面進(jìn)行介紹: 1.結(jié)構(gòu)組成 清洗槽:通常采用耐腐蝕的材料制成,是容納清洗液和硅片的主要部件,內(nèi)部設(shè)有不同的區(qū)域,用于完成不同的清洗步驟,如預(yù)清洗、主清洗、漂洗等。