

等離子清洗機(jī)的核心特點(diǎn)是利用高能等離子體實(shí)現(xiàn)對材料表面的干式、高精度處理,兼具清潔、活化、刻蝕等多重功能,且環(huán)保高效。 核心特點(diǎn) 1. 處理方式:干式清潔,環(huán)保無殘留 無需使用水、有機(jī)溶劑等化學(xué)清洗劑,僅依靠等離子體中的高能粒子與材料表面污染物發(fā)生作用,實(shí)現(xiàn)清潔。

自動供液系統(tǒng)在日化行業(yè)中主要用于實(shí)現(xiàn)原料輸送、配比、加注的自動化與正確化,核心價值是提升生產(chǎn)效率、保障產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定,并降低人工成本與物料浪費(fèi),廣泛覆蓋日化產(chǎn)品的生產(chǎn)全流程。

全自動硅片清洗機(jī)是針對硅片表面污染物(如顆粒、金屬離子、有機(jī)物殘留等)進(jìn)行高精度、自動化清潔的專用設(shè)備,其核心應(yīng)用場景集中在對硅片純度、表面平整度要求較高的行業(yè),具體如下: