用途:該設備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導體行業發展,砷化鎵、磷化銦等二代半導體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導體材料,對于濕化學清洗工藝提出了新要求。在配置傳統獨立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎上,新材料清洗設備按照客戶工藝菜單進行優化設置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設計提升,同時保持與行業廠商、學校研究院所的積極聯合探索和設備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設置,機械手在各工藝槽中進行相應的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統可以通過VMB給多臺設備進行供液。具有過濾、循環功能,根據用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環系統;當其中一個桶內的液體用完時,能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業,最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應用于LTCC、HTCC、MLCC等領域。
TIME: 2024-10-12零部件清洗機是一種用于清洗各種機械零部件的設備,它具有以下特點: 一、清洗效果方面 1.高效清洗 零部件清洗機能對零部件進行全方位清洗。它通過多種清洗方式組合,如噴射清洗、超聲清洗、浸泡清洗等。例如,在清洗復雜形狀的發動機缸體時,利用高壓噴射清洗可以去除表面的大塊油污和雜質,而超聲清洗則能夠深入到缸體內部的小孔、縫隙等難以觸及的部位,將污垢振落,從而實現高效、徹底的清洗效果,大大提高了清洗效率。
全自動硅塊清洗機主要用于對硅塊進行清洗,在硅材料的加工過程中有非常重要的作用。 1.去除雜質 表面污垢清除:在硅塊的開采、運輸和初步加工過程中,其表面會沾染各種污垢,如灰塵、泥土、油脂等。全自動硅塊清洗機能夠通過多種清洗方式,如高壓噴淋、超聲波清洗等,有效去除這些表面雜質,使硅塊表面恢復潔凈。
化學品通風柜具有以下特點: 1.安全防護性強 有效隔離有害氣體:通風柜內部通過風機系統形成負壓環境,能有效防止有害氣體外溢,將實驗過程中產生的有毒有害氣體、煙霧和顆粒物等限制在柜內,并及時排出,從而保護操作人員的健康和安全,避免其受到化學品侵害.