用途:該設(shè)備用于帶框生瓷片沖腔工藝,具有自動上下料、自動定位,自動沖切等功能,滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12隨著半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展,砷化鎵、磷化銦等二代半導(dǎo)體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,對于濕化學(xué)清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨(dú)立濕處理工藝槽(SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry)的基礎(chǔ)上,新材料清洗設(shè)備按照客戶工藝菜單進(jìn)行優(yōu)化設(shè)置,配液精度、配液種類、清洗方式方面進(jìn)行設(shè)計提升,同時保持與行業(yè)廠商、學(xué)校研究院所的積極聯(lián)合探索和設(shè)備定制。
TIME: 2024-10-11有不同的獨(dú)立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設(shè)置,機(jī)械手在各工藝槽中進(jìn)行相應(yīng)的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11自動供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺設(shè)備進(jìn)行供液。具有過濾、循環(huán)功能,根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng);當(dāng)其中一個桶內(nèi)的液體用完時,能夠自動進(jìn)行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學(xué)液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11該設(shè)備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè),最 大壓力80MPa,最大直徑600,最小230
TIME: 2024-10-11全自動疊層機(jī)是用于生瓷片疊片的設(shè)備,具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能,廣泛應(yīng)用于LTCC、HTCC、MLCC等領(lǐng)域。
TIME: 2024-10-12零部件清洗機(jī)是一種用于清洗各種機(jī)械零部件的設(shè)備,它具有以下特點(diǎn): 一、清洗效果方面 1.高效清洗 零部件清洗機(jī)能對零部件進(jìn)行全方位清洗。它通過多種清洗方式組合,如噴射清洗、超聲清洗、浸泡清洗等。例如,在清洗復(fù)雜形狀的發(fā)動機(jī)缸體時,利用高壓噴射清洗可以去除表面的大塊油污和雜質(zhì),而超聲清洗則能夠深入到缸體內(nèi)部的小孔、縫隙等難以觸及的部位,將污垢振落,從而實現(xiàn)高效、徹底的清洗效果,大大提高了清洗效率。
全自動硅塊清洗機(jī)主要用于對硅塊進(jìn)行清洗,在硅材料的加工過程中有非常重要的作用。 1.去除雜質(zhì) 表面污垢清除:在硅塊的開采、運(yùn)輸和初步加工過程中,其表面會沾染各種污垢,如灰塵、泥土、油脂等。全自動硅塊清洗機(jī)能夠通過多種清洗方式,如高壓噴淋、超聲波清洗等,有效去除這些表面雜質(zhì),使硅塊表面恢復(fù)潔凈。
化學(xué)品通風(fēng)柜具有以下特點(diǎn): 1.安全防護(hù)性強(qiáng) 有效隔離有害氣體:通風(fēng)柜內(nèi)部通過風(fēng)機(jī)系統(tǒng)形成負(fù)壓環(huán)境,能有效防止有害氣體外溢,將實驗過程中產(chǎn)生的有毒有害氣體、煙霧和顆粒物等限制在柜內(nèi),并及時排出,從而保護(hù)操作人員的健康和安全,避免其受到化學(xué)品侵害.