

“全自動清洗設(shè)備(硅基)” 是專門針對硅基材料(如硅片、硅基器件、硅基半導(dǎo)體元件等)設(shè)計的自動化清洗設(shè)備,主要用于清除硅基材料表面的污染物、雜質(zhì),以滿足半導(dǎo)體制造、光伏產(chǎn)業(yè)、微納加工等高精度領(lǐng)域的工藝要求。以下從技術(shù)原理、應(yīng)用場景、核心功能等方面詳細(xì)解析:

半自動濕處理設(shè)備是一類結(jié)合人工操作與機(jī)械化處理的濕加工設(shè)備,主要用于通過液體介質(zhì)(如水、化學(xué)溶液、漿料等)對物料進(jìn)行清洗、處理、加工或表面改性。其 “半自動” 特性體現(xiàn)在部分工序需人工干預(yù)(如上下料、參數(shù)調(diào)節(jié)),而核心處理過程由設(shè)備自動化完成。這類設(shè)備廣泛應(yīng)用于紡織、食品、電子、金屬加工等行業(yè),具體作用因應(yīng)用場景而異,以下是典型領(lǐng)域的功能解析:

生瓷片沖腔機(jī)是電子信息行業(yè)中用于加工多層陶瓷基板(MLCC、LTCC 等)的關(guān)鍵設(shè)備,通過精密沖壓在生瓷片(未燒結(jié)的陶瓷坯片)上形成腔體、通孔等結(jié)構(gòu),為后續(xù)電路集成、元器件埋置奠定基礎(chǔ)。其應(yīng)用覆蓋半導(dǎo)體封裝、5G 通信、新能源電子等多個領(lǐng)域,具體場景及技術(shù)特點如下: 一、核心應(yīng)用領(lǐng)域與場景 1. 多層陶瓷電容器(MLCC)制造 應(yīng)用場景:手機(jī)、電腦、汽車電子中的高容量 MLCC 生產(chǎn)。 技術(shù)作用: 在微米級生瓷片(厚度 5-100μm)上沖制陣列式凹槽,填充電極漿料后疊層燒結(jié),形成多層電容結(jié)構(gòu)(如 01005/0201 等超微型 MLCC)。